In der Halbleiterprozessierung müssen Wafer auf wenige nm genau belichtet werden. Eine wichtige Teilaufgabe dabei ist die genaue Ausrichtung der Wafer. Diese wird mit Hilfe von Messmarken durchgeführt. Bezüglich der Position und Anzahl dieser Messmarken gibt es eine Abwägung zwischen Messgenauigkeit und Durchsatz. Wir stellen einen Ansatz vor, automatisch eine optimale Auswahl aus potentiellen Messmarken zu treffen, um bei hohem Durchsatz eine gute Ausrichtungsgenauigkeit zu ermöglichen.